许开东导师

发布者:陈玲熙发布时间:2019-05-09浏览次数:2711

个人情况

    名:许开东

    箱:kaidong.xu@leuven-instruments.com

    历:博士

研究方向:1.集成电路工艺和设备相关研究;2.半导体光电材料、器件研究

    历:

许开东,教授,博导。集成电路制造行业专家,现任江苏鲁汶仪器有限公司董事长兼总经理,中国科学院微电子研究所客座研究员,国家级专家人才。出生于1977年,1999年获北京大学化学专业学士学位,2004年获比利时鲁汶大学(Catholic University of Leuven)化学专业博士学位。目前,针对半导体装备制造和刻蚀工艺等关键技术领域展开攻坚,解决新式存储器实现大规模量产的刻蚀难题。

教育经历

博士:1999- 2004年,比利时鲁汶大学,化学博士

本科:1995- 1999年,北京大学,化学学士

工作经历

2004-2010年,科林研发(Lam)项目经理、湿法清洗部门经理

2010-2015年,欧洲微电子研究中心(IMEC)等离子刻蚀研发部门经理

2015-至今,江苏鲁汶仪器有限公司,董事长兼总经理

2018-至今,江苏师范大学教授

讲授课程

半导体设备与工艺相关讲座

研究生培养基础要求

1.     具有良好的思想道德水平,做事认真、勤奋刻苦,学习和适应能力强;

2.     对半导体材料、工艺和设备相关研究和科研工作有浓厚兴趣,热爱创新工作。

代表性论文

1.     Xu Kaidong*, Hu Dongdong, Che Dongche, Sun Hongyue, Mikhal. R. Baklanov,Tang Jiale, Zhuang Shiwei, Chen Lu; A Patterning Solution by Utilizing Combined Etching for STT-MRAMIEDM, San-Francisco, USA, 2018-12-32018-12-5.

2.     Xu Kaidong, Pichler Stefan, Wostyn Kurt, Cado Geiwado, Springer Climent*, Gale Glenn, Dalmer Michael, Mertens Paul, Bearda Twan, Gaulhofer Ernst, Podlesnik Dragan; Removal of Nano-particles by Aerosol Spray: Effect of Droplet Size and Velocity on Cleaning PerformanceSolid State Phenomena, 2009, 145-146: 31-34.

3.     Xu Kaidong*, Lauwers Ann, Vos Rita, Archer Leo, Kraus Harald, Demeurisse, Merterns Sofie Christeen, Mertens Paul, Henry Sally-Ann, Gale Glenn, Kovacs Frederic, Dalmer Michael, Gaulhofer Ernst; Post Salicidation Clean: Selective Removal of Un-reacted NiPt towards NiPtSi(Ge), ECS Transactions, 2007,11 (2): 327-334

4.     Xu Kaidong*, VereeckeGuy, Kesters Els, Le Quoc-Toan, Lux Marcel, Henry Sally-Ann, Kraus Harald, Archer Leo, Mertens Paul, Kovacs Frederic, Dalmer Miachel, Gaulhofer Ernst, Luo Shijian, Han Qingyuan, Berry Ivan; Modifications of Porous Low-N by Plasma Treatments and Wet Cleans, ECS Transactions, 2007, 11 (2): 409-416

5.      Xu Kaidong*,VosRita, Vereecke Guy, Doumen Geert, Fyen Wim, Mertens Paul, Heyns Marc, Vinckier Christian, Fransaer Jan, Kovacs Frederic; Fundamental study of the removal mechanisms of nano-sized particles using brush scrubber cleaning, Journal of Vacuum Science & Technology B, 2005, 23(5): 2159-2175.

发明专利

1. Xu KaidongWAFER PROCESSING APPARATUS AND METHOD, 2020-03-26, USA, US16/196.349

2. 许开东;一种高密封度的气相腐蚀腔体,2019-12-10,中国,ZL201710564802.9

3. 康斯坦丁·莫吉利尼科夫,许开东;形成具有稳定蒸汽浓度的气液混合物的装置和方法;2019-10-25,中国,ZL201611114997.9

4. 康斯坦丁·莫吉利尼科夫,许开东;气体喷射装置,2019-06-07,中国,ZL201610520818.5

5. 康斯坦丁·莫吉利尼科夫,许开东;样品分析系统以及样品分析方法,2019-05-07,中国,ZL201510751567.7

6. 许开东;一种晶圆切割方法,2019-04-09,中国,ZL201610480927.9

7. 康斯坦丁·莫吉利尼科夫,许开东;样品分析系统以及样品分析方法,2019-01-15,中国,ZL201610225426.6

8. 许开东;一种晶圆切割装置和方法,2018-09-11,中国,ZL201610587172.2

9. 许开东;气相分解沾污收集系统,2018-05-04,中国,ZL201730444773.3

10. 许开东,陈璐,艾尔伯特费尔,巴克拉洛夫;一种机械手臂上结构改良的夹爪,2018-01-09,中国,ZL201610266269.3

获奖及荣誉

1.       2016年,入选江苏省双创团队

2.       2017年,入选江苏省双创个人

3.       2016年,入选徐州市双创个人

4.       2017年,入选六大高峰人才团队领军人才

5.       2017年,第五届中国江苏创新创业大赛三等奖

6.       2017年,江苏省领军型新生代企业家培养对象

7.       2019年,江苏省友谊奖